حليب التنظيف الأساسي للبشرة الحساسة، 125 مل
$5.95
وصف المنتج
- تم اختباره من قبل أطباء الجلدية للتأكد من توافقه مع البشرة ومناسبته لمنطقة الوجه والعين.
- تركيبة قابلة للتحلل البيولوجي بدون زيوت معدنية وبدون عطور صناعية أو ألوان أو مواد حافظة.
- معتمد وفقًا لمعيار NATRUE الصارم والمستقل لمستحضرات التجميل الطبيعية.
- معتمد من PETA وملتزم برعاية الحيوان.
- يتكون البلاستيك في الأنبوب (بما في ذلك الغطاء) من 95% مواد معاد تدويرها.
استمتعي بتنظيف طبيعي مع حليب التنظيف الأساسي الحساس من لافيرا.
يحتوي على الصبار العضوي وزبدة الشيا العضوية، وينظف البشرة الجافة بلطف وعمق دون أن يُجففها، ويتركها ناعمة وملساء.
مميزات المنتج
- نوع البشرة: فروة الرأس الجافة
- مميزات المنتج: خالي من البارافينات والزيوت المعدنية والبارابين – مستحضر تجميل طبيعي – نباتي
- نوع المنتج: حليب / رغوة منظفة
- نطاق الاستخدام: الوجه
- الملمس / التطبيق: غسول
معلومات حول استدامة المنتج
هذا المنتج حاصل على شهادة أو ختم بيئي أو استدامة.
نهدف من خلال هذه المعلومات إلى تسهيل استهلاك أكثر وعيًا بالبيئة.
تم اختيار الشهادات بالتعاون مع الاتحاد الألماني لحفظ الطبيعة والتنوع البيولوجي (NABU).
المكونات
ماء (أكوا)، جلسرين، كابريليك/كابريك تراي جليسريد، كحول* منزوع، زيت جوز الهند*، أوكتيل دوديكانول، كحول سيتياريل،
سترات ستيرات الجلسريل، كحول ميريستيل، زبدة الشيا*، عصير أوراق الصبار*، مسحوق عصير أوراق الصبار*، مستخلص أوراق
هاماميليس فيرجينيانا (بندق الساحرة)*، مستخلص أوراق ميليسا أوفيسيناليس (بلسم الليمون)*، فوسفات سيتيل البوتاسيوم،
صمغ زانثان، جلوتامات كوكويل الصوديوم، جلوتامات كوكويل ثنائي الصوديوم، توكوفيرول، زيت بذور دوار الشمس،
زيلتيل غلوكوزيد، أنهيدروكسيليتول، صمغ السكاريد الحيوي-1، إكسيليتول، بالميتات الأسكوربيل، كابريلات الجلسرين،
حمض الليفولينيك، ليفولينات الصوديوم، حمض اللاكتيك، أنيسات الصوديوم، حمض الستريك، عطر (بارفان)**، ليمونين**،
لينالول**، سيترونيلول**، جيرانيول**، سيترال**، ساليسيلات البنزيل**
* مكونات من الزراعة العضوية المعتمدة
** من الزيوت العطرية الطبيعية
تعليمات الاستخدام
ضعيه صباحًا ومساءً على الوجه والرقبة ومنطقة أعلى الصدر، ثم أزيليه بالماء الدافئ.
أزيلي مكياج العيون باستخدام كمية صغيرة من الحليب المنظف على قطعة قطن مبللة.
التعليقات
لا توجد توصيات بعد.